Stroj za litografiju, stroj za foto-jetkanje za poravnavanje maski
Predstavljanje proizvoda
Izvor svjetla za ekspoziciju usvaja uvezeni UV LED i modul za oblikovanje izvora svjetla, s malom toplinom i dobrom stabilnošću izvora svjetla.
Struktura invertirane rasvjete ima dobar učinak rasipanja topline i učinak bliskog izvora svjetlosti, a zamjena i održavanje živine lampe su jednostavni i praktični.Opremljen binokularnim mikroskopom s dvostrukim poljem velikog povećanja i LCD zaslonom od 21 inča, može se vizualno poravnati kroz
okular ili CCD + zaslon, s visokom preciznošću poravnanja, intuitivnim procesom i praktičnim rukovanjem.
Značajke
S funkcijom obrade fragmenata
Kontaktni pritisak izravnavanja osigurava ponovljivost kroz senzor
Razmak poravnanja i razmak ekspozicije mogu se postaviti digitalno
Korištenje ugrađenog računala + rada sa zaslonom osjetljivim na dodir, jednostavno i praktično, lijepo i velikodušno
Ploča koja se povlači gore i dolje, jednostavna i praktična
Podržava vakuumsko izlaganje kontaktu, izlaganje tvrdom kontaktu, izlaganje kontaktu pod pritiskom i izlaganje blizinom
S funkcijom sučelja nano otiska
Izlaganje u jednom sloju s jednim ključem, visok stupanj automatizacije
Ovaj stroj ima dobru pouzdanost i prikladnu demonstraciju, posebno pogodan za nastavu, znanstvena istraživanja i tvornice na fakultetima i sveučilištima
Više detalja
Specifikacija
1. Područje ekspozicije: 110 mm × 110 mm；
2. ★ Valna duljina ekspozicije: 365nm;
3. Razlučivost: ≤ 1m;
4. Točnost poravnanja: 0,8m;
5. Raspon gibanja stola za skeniranje sustava za poravnanje mora biti najmanje: Y: 10 mm;
6. Lijeva i desna svjetlosna cijev sustava za poravnanje mogu se pomicati odvojeno u smjerovima X, y i Z, smjer X: ± 5 mm, smjer Y: ± 5 mm i smjer Z: ± 5 mm;
7. Veličina maske: 2,5 inča, 3 inča, 4 inča, 5 inča;
8. Veličina uzorka: ulomak, 2", 3", 4";
9. ★ Prikladno za debljinu uzorka: 0,5-6 mm i može podržati uzorke od najviše 20 mm (prilagođeno);
10. Način ekspozicije: mjerenje vremena (način odbrojavanja);
11. Neujednačenost osvjetljenja: ＜ 2,5%;
12. CCD mikroskop za poravnanje s dvostrukim poljem: zum objektiv (1-5 puta) + objektiv mikroskopa;
13. Hod kretanja maske u odnosu na uzorak mora biti najmanje: X: 5 mm;Y: 5 mm;: 6º；
14. ★ Gustoća energije izloženosti: > 30MW / cm2,
15. ★ Položaj poravnanja i položaj ekspozicije rade u dvije stanice, a servo motor dvije stanice se automatski prebacuje;
16. Kontaktni tlak izravnavanja osigurava ponovljivost kroz senzor;
17. ★ Razmak poravnanja i razmak ekspozicije mogu se postaviti digitalno;
18. ★ Ima sučelje nano otiska i sučelje blizine;
19. ★ Rad sa zaslonom osjetljivim na dodir;
20. Ukupna dimenzija: Oko 1400 mm (duljina) 900 mm (širina) 1500 mm (visina).
